材料與工藝：

1. 38CrMoALA氮化處理
氮化深度：0.5-0.8mm，氮化硬度：HV≥920

2. 42CrMo電鍍：高頻淬火+電鍍/雙金屬PTA+電鍍
鍍鉻硬度：≥HV800，厚度0.03-0.05mm，粗糙度Ra0.2um

3. SKD61調質、真空淬火+整體硬化處理
硬度指標：HRC＞55-58，直線度0.015mm/m，粗糙度Ra0.4um

4. 9Cr18Mov 真空淬火、CNC圓磨
硬度指標：HRC＞50-55，直線度0.015mm/m，粗糙度Ra0.4um

5.電鍍硬鉻技術指標：
鍍鉻層厚度：0.05-0.10mm，鍍鉻層硬度：HV≥960